زمینه و هدف:
فرآیندهای بلیچینگ ممکن است خواص ساختاری مواد کامپوزیتی را تحت تأثیر قرار داده و منجر به آزاد شدن مونومرها شوند. هدف از این مطالعه، ارزیابی تأثیر بلیچینگ داخل مطبی به روش لیزر–اسیستد و روش متداول بر میزان آزادسازی مونومرهای BIS-GMA، TEGDMA و UDMA از کامپوزیت‌های نانوهیبرید و میکروهیبرید بر پایه BIS-GMA بود.

مواد و روش‌ها:
در این مطالعه، ۳۲ نمونه از هر نوع کامپوزیت تهیه و به‌طور تصادفی به چهار زیرگروه تقسیم شدند:
زیرگروه ۱: بلیچینگ داخل مطبی متداول (CIB) با استفاده از ژل Opalescence Boost PF 38٪؛
زیرگروه ۲: بلیچینگ لیزر–اسیستد (LBO) با ژل Opalescence Boost PF 38٪؛
زیرگروه ۳: بلیچینگ لیزر–اسیستد (LBH) با ژل JW Power؛
زیرگروه ۴: گروه کنترل (CO) بدون انجام بلیچینگ.

تمام نمونه‌ها در لوله‌هایی حاوی ۲ سی‌سی محیط اتانول ۷۵٪ غوطه‌ور شدند. میزان مونومرهای آزادشده با استفاده از روش کروماتوگرافی مایع با کارایی بالا (HPLC) در زمان‌های ۲۴ ساعت، ۷ روز و ۲۸ روز اندازه‌گیری شد. داده‌ها با استفاده از آزمون تحلیل واریانس یک‌متغیره و آزمون تعقیبی Tukey HSD مورد تحلیل آماری قرار گرفتند.

نتایج:
میزان آزادسازی مونومر TEGDMA اختلاف معنی‌داری نشان نداد. با این حال، کامپوزیت‌های نانوهیبرید به‌طور معنی‌داری آزادسازی مونومر بیشتری نسبت به کامپوزیت‌های میکروهیبرید داشتند (P < 0.05). برای مونومر UDMA، اثر متقابل فقط پس از یک هفته معنی‌دار بود. در کامپوزیت‌های میکروهیبرید، گروه کنترل میزان آزادسازی بیشتری نسبت به زیرگروه‌های LBH و LBO نشان داد. در کامپوزیت‌های نانوهیبرید، زیرگروه LBH آزادسازی مونومر بیشتری نسبت به زیرگروه‌های CIB و CO داشت. در مورد مونومر BIS-GMA، اثر متقابل در تمامی بازه‌های زمانی معنی‌دار بود و زیرگروه LBH در کامپوزیت نانوهیبرید به‌طور معنی‌داری بیشترین میزان آزادسازی BIS-GMA را در مقایسه با سایر زیرگروه‌ها نشان داد.

نتیجه‌گیری:
بلیچینگ لیزر–اسیستد با استفاده از ژل JW Power منجر به افزایش آزادسازی مونومرها از کامپوزیت نانوهیبرید شد.

واژگان کلیدی:
لیزر دیود؛ پراکسید هیدروژن؛ کروماتوگرافی؛ رزین کامپوزیت دندانی؛ بلیچینگ دندان.